[더퍼블릭=오두환 기자] SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국으로 유출하고 삼성전자 자회사의 장비 도면을 빼돌린 혐의로 기소된 협력사 부사장 A(61)씨에게 징역 1년 6개월의 실형이 확정됐다.
대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 산업기술보호법 위반 및 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설 등) 혐의로 기소된 A씨에게 징역 1년 6개월을 선고한 원심 판결을 확정했다.
같은 혐의로 재판에 넘겨진 연구소장 등 직원 3명도 징역 1년∼1년 6개월의 실형이 확정됐고, 다른 직원 1명은 징역 8개월에 집행유예 2년을 확정받았다. 협력사 법인에는 벌금 10억원이 확정됐다.
A씨 등은 SK하이닉스와 협업하며 알게 된 반도체 세정 레시피, 하이케이메탈게이트(HKMG) 제조 기술 등 핵심기술과 영업비밀을 2018년 중국 반도체 업체로 유출한 혐의로 기소됐다.
HKMG는 누설 전류를 줄이고 정전용량을 개선해 D램 속도를 높이면서 전력 소모를 줄이는 차세대 공정 기술이다.
또 삼성전자 자회사 세메스의 전직 직원들로부터 초임계 세정장비 도면 등 첨단기술과 영업비밀을 취득해 중국 수출용 장비 개발에 활용한 혐의도 받았다.
1심은 A씨에게 징역 1년을 선고했으나, 2심은 형량을 징역 1년 6개월로 높였다. SK하이닉스와 공동 개발한 기술정보 제공 혐의에 대해 1심은 무죄로 봤으나, 2심은 유죄로 판단했다.
대법원은 "원심 판단에 논리와 경험의 법칙을 위반해 자유심증주의의 한계를 벗어나거나 산업기술보호법 위반에서 정한 국가핵심기술과 첨단기술, 부정경쟁방지법에서 정한 영업비밀 등에 관한 법리를 오해한 잘못이 없다"며 상고를 모두 기각했다.
더퍼블릭 / 오두환 기자 actsoh@thepublic.kr